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기술현황

BUSINESS
소개-1
Chamber Cleaning
01. Chamber 내부 Diamond Pad 사용으로 Chamber 내부 오염물제거 Particle 문제 해결.
02. CVD. PVD. Etch. Diff. Implant. Photo. 반도체 장비 Chamber Wall Grinding 기술적인 작업으로 인한 Particle 문제를 해결하고 Yield 향상.
03. Deposition 시 Particle Reduction 으로 인한 Process 안정화 및 High Tech Device
개발에 yield 향상의 효과.
소개-2
GAS LINE 제작
01. 반도체 제조 공정에 사용되는 다양한 종류의 GAS LINE 제작하여 서비스를 제공합니다.
02. 안전/공정/Process관리 현장실측 및 맞춤 제작하여 서비스를 제공합니다.
03. GAS LINE clean room 제작 및 현장 Leak Test Particle 측정 & N2 purge 하여 제작하여 서비스를 제공합니다.
소개-3
배관 Hook up
01. 반도체 공정에 사용되는 다양한 종류의 배관을 제작하여 시공 서비스를 제공합니다.
02. 전문인력 투입 및 맞춤 제작으로 유연한 대응 하여 서비스를 제공합니다.
03. Heat Exchanger Line 배관가설 時 배관 연결부위 용접 Type 작업하여 Leak Point 의 감소로 인한 안전사고 위험이 없습니다.
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